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五種對單晶(jīng)爐密閉性能(néng)的檢測手段(duan)[2014/6/28]單晶爐爐室(shì)内的工作溫(wēn)度高達1400℃甚至(zhì)更高,故其殼(ke)體需爲夾層(ceng)結構以便通(tōng)水冷卻,主輔(fu)爐室之間,觀(guān)察口、抽氣口(kǒu)等處要施以(yi)靜密封,籽晶(jing)坩埚等運動(dong)部件處要施(shi)以動密封,這(zhè)些都對提高(gao)單晶爐整體(ti)密閉性增加(jia)了難度。同時(shi)也對真空密(mì)閉性能的檢(jian)驗提出了更(gèng)高的要求。 鑒(jiàn)于奧氏體不(bu)鏽鋼防鏽、強(qiang)度高、塑性及(ji)韌性好、焊接(jiē)性能優良、順(shun)磁性、導熱導(dǎo)電性低等特(tè)點,幾乎所有(you)的單晶爐爐(lú)室都采用00Crl8Ni9Ti(SuS304L)不(bú)鏽鋼材料,采(cai)用鎢極氩弧(hu)焊(rnG)或熔化極(ji)氩弧焊(MIG)。 制造(zào)過程中對單(dan)個零件的檢(jian)驗,主要是對(duì)采用焊接工(gong)藝零件焊縫(féng)的檢驗,防止(zhi)焊接過程中(zhōng)的虛焊漏焊(hàn),杜絕裂紋氣(qì)孔,及時發現(xiàn)問題采取補(bu)救措施。 外觀(guan)檢驗法 着(zhe)色檢驗法 着(zhe)色檢驗法的(de)原理是用着(zhe)色劑來顯示(shì)缺陷。着色檢(jiǎn)驗不需專門(men)裝置,隻要配(pèi)置适宜的着(zhe)色劑、顯現粉(fěn),即可獲得檢(jian)驗結果。其工(gong)作原理是基(jī)于毛細管作(zuo)用來實現的(de)。先用合适的(de)溶劑将焊縫(féng)清洗幹淨,并(bìng)讓其幹燥,接(jiē)着噴上着色(sè)劑,等待一段(duàn)時間,流動性(xing)和滲透性良(liang)好的着色劑(jì)便滲入到焊(han)件表面的縫(feng)隙中,然後将(jiāng)焊件表面再(zai)次擦拭幹淨(jìng)并噴上顯現(xian)粉,侵人焊件(jiàn)縫隙中的着(zhe)色劑,則由于(yú)毛細管現象(xiàng)上滲到顯現(xian)粉中來,呈現(xiàn)出缺陷的形(xíng)象。雖然着色(se)檢驗也隻能(neng)發現表面的(de)缺陷,但根據(jù)着色顯現出(chū)來的大小可(kě)以幫助判定(dìng)缺陷的大小(xiǎo),比其外觀檢(jian)驗效果更好(hao)。 要對焊縫的(de)内部缺陷進(jin)行檢驗,既準(zhun)确又可靠的(de)方法是x射線(xian)檢驗。利用x射(shè)線來檢驗焊(han)縫的方法目(mù)前應用最廣(guang)泛的是照相(xiang)法。這種方法(fa)就是在被檢(jian)驗焊縫的後(hòu)面放置一張(zhang)膠片,x射線從(cóng)前面透人。當(dang)x射線經過被(bei)檢驗的焊縫(feng)後,由于焊縫(féng)金屬和焊縫(féng)缺陷的密度(du)不同,對X射線(xiàn)的能量衰減(jian)和吸收不同(tong),而到達膠片(pian)上的x射線強(qiang)度也不同,膠(jiao)片的感光程(cheng)度不一樣,經(jing)過顯影後得(de)到的底片黑(hēi)化度也就不(bú)同,有缺陷處(chu)x射線吸收少(shao),透過的x射線(xian)強度較大,底(di)片感光較強(qiáng),顯影比較黑(hei);無缺陷處底(dǐ)片感光則較(jiao)弱,顯影後呈(chéng)淡白色。這樣(yàng),觀察底片上(shàng)的影像就能(néng)發現焊縫有(yǒu)無缺陷及缺(que)陷的種類、大(dà)小和位置。 水(shuǐ)壓檢驗 對單(dan)晶爐中殼體(tǐ)爲夾層結構(gou)的零件,除采(cǎi)用上述方法(fǎ)外,還可以采(cǎi)用水壓法檢(jiǎn)驗夾層是否(fou)有缺陷。水壓(ya)法檢驗是在(zài)單晶爐殼體(ti)上留一個入(ru)口用水将夾(jiá)層灌滿,并堵(dǔ)好其餘的出(chu)口,用水泵把(bǎ)夾層内的水(shuǐ)壓提高到3.2kg/cm2左(zuo)右,進行強壓(yā)試驗,并維持(chi)15min以上,壓力不(bú)能有下降,同(tóng)時檢查焊縫(feng)上是否有水(shui)滴或水迹出(chū)現,如果出現(xiàn)則表明該處(chù)有滲漏缺陷(xiàn),應做出标記(jì),以便修補。水(shuǐ)壓法檢驗方(fang)法簡單,容易(yi)找出缺陷的(de)具體位置,不(bu)過其最小可(ke)檢漏率隻能(néng)達到10“Pa·L/s,對極其(qi)微小的缺陷(xiàn)就無能爲力(lì)了。 氦質譜檢(jian)驗法 用于 單(dan)晶爐 的真空(kōng)殘餘氣體分(fèn)析的質譜計(ji)都可以用來(lái)檢漏,特别是(shi)用氦做示漏(lou)氣體的質譜(pu)檢漏儀,是真(zhen)空檢漏中靈(ling)敏度最高、用(yòng)得最普遍的(de)一種檢漏儀(yi)器,其最小可(ke)檢漏率能達(da)到10。11Pa·L/s。目前的氦(hài)質譜檢漏儀(yí)基本上都是(shi)磁偏轉型的(de),其實質是一(yi)種對氦分壓(ya)變化有反應(ying)的儀器。單晶(jing)爐殼體夾層(céng)用氦質譜檢(jiǎn)漏儀進行檢(jiǎn)驗,首先要留(liu)~個入口接上(shàng)真空管路,堵(du)好殼體上其(qí)他的出口,再(zai)用輔助真空(kōng)泵抽真空,真(zhen)空度達到10Pa以(yi)下後,才能打(da)開與之相連(lian)的氦質譜檢(jiǎn)漏儀,然後用(yong)氦氣在疑有(yǒu)漏孔處進行(háng)噴吹,檢查檢(jiǎn)漏儀指示是(shì)否有變化,如(rú)發現有變化(hua)時,應再做幾(ji)次複檢,确定(dìng)漏孔的具體(ti)位置。氦質譜(pǔ)檢漏的設備(bei)都較昂貴,因(yīn)此應盡可能(neng)采用其他較(jiào)爲經濟的檢(jiǎn)漏方法。
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